涂胶显影机（Track）质量流量控制器（MFC）屏蔽罩
在半导体光刻工艺中，涂胶显影机（Track）与光刻机联机作业，负责在晶圆上均匀涂覆光刻胶，并在曝光后进行显影。光刻胶涂布的厚度均匀性直接影响后续光刻的线宽精度与芯片良率——先进工艺中，1.5 μm胶厚的均匀性要求已严苛至±0.3%（约±5 nm） 。
而光刻胶的涂布厚度，直接受涂胶显影机内部数十路工艺气体流量的精密控制所决定。这些气体的质量流量由质量流量控制器（MFC，Mass Flow Controller） 实时监测与调节。MFC由质量流量计（MFM）和控制阀组成，兼具流量测量与控制功能，在涂胶显影机中负责精确控制用于驱动液路、吹扫管路、维持腔体压力的各种工艺气体的流量。
然而，MFC对磁场干扰极其敏感。在半导体制造设备中，MFC的安装位置往往与等离子体源过于接近。等离子体源工作时产生的强磁场会干扰MFC的传输信号，导致流量读数出现负值等无效数值，直接影响其对管路流量的控制。在涂胶显影工艺中，这意味着气路压力的波动直接传递为光刻胶涂布厚度的不均匀——轻则造成片内/片间均匀性超标，重则导致整批晶圆报废。
我们的涂胶显影机MFC磁屏蔽罩正是为此而生——采用相对磁导率≥80,000的高磁导率坡莫合金（MuMETAL®/1J85） 精密成型，直接套设于MFC外围或设置于等离子体源与MFC之间，形成一道高衰减、低剩磁的磁隔离屏障，确保MFC的传输信号在强磁环境中准确、稳定，从而保障涂胶显影工艺的气路控制精度与光刻胶涂布均匀性
