聚焦离子束（FIB）离子光学柱屏蔽套
聚焦离子束（FIB）离子光学柱屏蔽套是专为聚焦离子束设备、FIB-SEM双束系统离子光学镜筒开发的高精度专用磁屏蔽防护组件，采用多层真空退火MuMETAL高导磁合金精密套筒结构，完整包覆离子源、聚焦透镜、偏转系统与束流光路上的整段离子光学柱体。
FIB依靠高能镓离子或等离子离子束实现纳米级刻蚀、沉积、切片与微观修复工艺，离子束质量远大于电子束，对微弱磁场偏移、梯度扰动极其敏感，地磁场漂移、实验室工频杂散磁、周边设备电磁漏磁、真空泵体磁干扰极易引发离子束轨迹偏移、束斑发散、聚焦劣化、扫描畸变、刻蚀图形偏移与边缘粗糙度超标等工艺缺陷。
本屏蔽套依托多层闭环磁分流原理，构建全域低梯度、近零磁本底的纯净离子光路环境，稳定离子束传输轨迹与聚焦基准，从根源消除磁致工艺误差，是保障FIB纳米加工、微观表征精度的核心精密屏蔽配件，广泛应用于半导体失效分析、微纳加工、器件修复、材料科研领域。
