氦离子显微镜（HIM）气体场离子源（GFIS）磁屏蔽颈
氦离子显微镜（Helium Ion Microscope, HIM）是一种基于气体场离子源（Gas Field Ion Source, GFIS） 的超高分辨率显微镜与纳米加工技术。其核心是一个原子级尺寸的钨针尖——尖端仅由三个钨原子组成的三聚体（Trimer） ——在液氮冷却和高压电场作用下，吸附的氦原子被电离形成氦离子束。该离子束经加速（10-35 keV）和聚焦后，可形成直径小于0.5 nm的束斑，成像分辨率达0.5 nm。
气体场离子源（GFIS）是HIM实现亚纳米级成像与加工精度的核心前提。离子源产生的氦离子束以极高的亮度（高达 5×10⁹ A·cm⁻²·sr⁻¹）和极小的虚拟源尺寸（<0.3 nm），使得HIM在成像分辨率、景深和表面细节对比度上超越了传统扫描电镜（SEM）。
然而，GFIS的极高精度也使其对外部磁场极其敏感。离子光学柱内的氦离子束能量极高（10-35 keV）但束斑极小（<0.5 nm）——任何微小的外部磁场波动都足以使离子束轨迹发生偏转，导致束斑变形、成像分辨率下降、纳米加工定位偏差。地磁场（约25-65 μT）、实验室周边设备的杂散磁场，甚至显微镜自身磁性部件产生的漏磁，都会对GFIS离子束的传输精度构成严重威胁。
GFIS磁屏蔽颈正是为解决这一“离子束磁偏转”问题而设计。它采用高磁导率坡莫合金（Co-NETIC® AA级）精密加工成筒状或颈状结构，紧密包裹GFIS离子源至离子光学柱的束流传输路径。磁屏蔽颈利用坡莫合金的磁分路原理——为干扰磁场提供一条低磁阻路径，使磁力线优先沿屏蔽颈“绕道而行”而非穿透屏蔽颈干扰离子束轨迹——为氦离子束构建一条纯净、笔直的传输通道，从根本上保障HIM的亚纳米级成像分辨率与加工精度
