聚焦离子束（FIB）离子光学柱屏蔽套是专为聚焦离子束设备、FIB-SEM双束系统离子光学镜筒开发的高精度专用磁屏蔽防护组件，采用多层真空退火MuMETAL高导磁合金精密套筒结构，完整包覆离子源、聚焦透镜、偏转系统与束流光路上的整段离子光学柱体。

FIB依靠高能镓离子或等离子离子束实现纳米级刻蚀、沉积、切片与微观修复工艺，离子束质量远大于电子束，对微弱磁场偏移、梯度扰动极其敏感，地磁场漂移、实验室工频杂散磁、周边设备电磁漏磁、真空泵体磁干扰极易引发离子束轨迹偏移、束斑发散、聚焦劣化、扫描畸变、刻蚀图形偏移与边缘粗糙度超标等工艺缺陷。

本屏蔽套依托多层闭环磁分流原理，构建全域低梯度、近零磁本底的纯净离子光路环境，稳定离子束传输轨迹与聚焦基准，从根源消除磁致工艺误差，是保障FIB纳米加工、微观表征精度的核心精密屏蔽配件，广泛应用于半导体失效分析、微纳加工、器件修复、材料科研领域。

采用同轴圆筒多层闭环屏蔽结构，完美适配FIB细长柱体光路特性，360°周向无磁漏、纵向全程磁均衡，彻底解决离子光路长度大、易受轴向与横向磁扰动导致的束飘难题；

采用高纯MuMETAL合金经真空氢气退火处理，具备极低矫顽力、近零剩磁、无磁滞累积特性，长期设备通电、工艺循环无二次磁化残留，不会引入额外偏置磁场干扰离子束基准；

薄壁精密套筒设计同轴度高、贴合性好，不干涉镜筒装配、不挤压光学组件、不影响超高真空抽速与腔体洁净度，无放气、无粉尘析出，完全适配FIB超高真空精密制程；

预留精准线束、通气与装配避位，不破坏离子光学系统原始结构与电气性能；兼容全系单束FIB、FIB-SEM双束系统，可直接新机配套或老旧设备纳米工艺精度升级改造。

该FIB离子光学柱专用屏蔽套具备优异的宽频磁噪抑制与光路均衡性能，可高效衰减直流地磁场、空间静磁漂移与50Hz工频交变磁干扰，将整段离子光学柱光路残余磁场压制至纳特斯拉级别，大幅降低光路磁场梯度，有效稳定离子束聚焦精度与扫描线性度，显著改善刻蚀边缘垂直度、图形保真度与沉积均匀性；

材料磁性能热稳定性极佳，全温域工况下磁导率无波动、无热致磁漂移，可支撑长时间连续切片、刻蚀、沉积作业，保障多批次工艺一致性与数据重复性；

屏蔽套筒结构刚性强、抗微振动、抗环境气流扰动，可隔绝实验室微震动耦合磁干扰，持续抑制离子束瞬时偏移与工艺抖动；

长期超高真空工况无磁疲劳、无性能老化，长效维持FIB设备纳米级精密加工与微观分析基准，有效降低工艺缺陷率。